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來源：PTB 新聞

SENTECH 儀器有限公司、柏林工業(yè)大學(xué)、柏林亥姆霍茲材料與能源中心有限公司、德國聯(lián)邦物理技術(shù)研究院（PTB）共同攜手合作的聯(lián)合研究提案已被批準(zhǔn)用于柏林 IBB 投資銀行的 ProFIT 計(jì)劃（促進(jìn)研究、創(chuàng)新、技術(shù)的計(jì)劃）。

在開展OptiRefS 項(xiàng)目（技術(shù)層系統(tǒng)的光學(xué)參考數(shù)據(jù)）的三年期間，他們將開發(fā)用于在 200納米以下波長范圍內(nèi)對薄膜層進(jìn)行橢圓測量的新型參考物質(zhì)，例如紋理硅表面和超薄二維石墨層。

通過使用 PTB 計(jì)量光源 MLS的真空紫外 (VUV-) 橢偏儀，可以確定具有可靠不確定度的相應(yīng)光學(xué)常數(shù)。由于 VUV 光譜范圍內(nèi)的測量具有極高的表面敏感性，因此測量質(zhì)量會受到分子污染等表面效應(yīng)的限制，導(dǎo)致這些范圍缺乏有效數(shù)據(jù)。

在混合計(jì)量方法中使用互補(bǔ)測量技術(shù)和數(shù)值建模，就可通過定量識別、校正干擾效應(yīng)來解決這些缺點(diǎn)，從而能夠可靠地提供光學(xué)材料參數(shù)。

——編譯：曹歆